BAO Mask Avenger 2 – 单独控制蒙版顶点（和切线）
版本 2 中的新增功能
•保存 RAM 预览。上一版本最大的问题是Ram预览失效了。
使用插件。新的 Mask Avenger 2.0 烘焙系统避免了这种情况。
•3D 蒙版。 Mask Avenger 现在控制 3D 蒙版，无需使用空图层和表达式。
然后掩码的计算速度更快，表达式的编写也更容易。
•背景烘焙。当需要更换面具时，Mask Avenger 会立即将其转换为
当前时间并在后台烘焙工作区域的其余部分。这意味着您可以继续工作
当复仇者面具正在忙着烘烤时。这取代了动态和烘焙模式。
•表单层更好的兼容性。与“动态”模式相关的错误已经在新的烘焙食品中消失了
系统。
•工作空间和图层持续时间不再影响Mask Avenger 的计算速度。当然
烘焙 100,000 个关键帧需要花费 10 多个时间，但新的烘焙系统可让您继续工作
烘烤时。
•遮罩渲染器中不再需要。 Mask Avenger 现在使用 AE 自己的遮罩功能并且速度更快。
•蒙版预览。 Mask avenger 2.0 有一个预览系统，可以在变化发生之前动态地向您展示
应用于面膜。这可以避免蒙版被表达式、其他图层或相机修改时出现延迟。
单独控制每个蒙版顶点
•关键帧、柔化、表情和 3D 空间。
•您可以仅使用顶点或完全控制切线。
•集成脚本可帮助您使用表达式并将蒙版与空图层相关联。
•使用简单的pick-whip表达式将遮罩顶点与跟踪点相关联。
•使用冻结模式与没有 Mask Avenger 的用户共享您的项目。
•智能插值模式：根据重心或独立关键参考点存储体积。
•与自由变换蒙版工具集成。
•掩模读取器：读取掩模路径上任意点的位置和方向。
•复仇者形状：将复仇者蒙版应用于图层形状。
•Mask Avenger 是一个原生 After Effects 插件。
After Effects CC 2019、CC 2018、CC 2017、CC 2015.3、CC 2015、CC 2014、CC、CS6
-修复了 M1 兼容性问题（Mac）
